微纳加工激光束中的图形化工艺

首页 / 新闻 / 微纳加工激光束中的图形化工艺

微纳加工激光束中的图形化工艺

通过 管理员 / date Aug 20,2020

苏州思时代电子科技有限公司(si-era)位于中国苏州纳米城市最大的内存产业集群中。在内存领域拥有近20年的技术积累,他在内存传感器,生物内存,光学内存和射频内存方面拥有丰富的设计和处理经验。

微纳米加工的图案化工艺主要分为两种技术:图案转移和直接加工。图案转移技术包括三个部分:薄膜沉积,图案成像和图案转移。通过控制聚焦的高能激光(短波/脉冲)光束以微米级直接在蚀刻材料上产生精细结构,直接处理激光束蚀刻技术具有直接写入的能力,从而避免了图案转印的多步骤过程/亚微米薄膜的蚀刻加工精度适合于多种材料,以实现三维微结构的生产。

微纳米制造技术是指尺寸为毫米,微米和纳米的零件以及由这些零件组成的组件或系统的设计,加工,组装,集成和应用技术。传统的“宏”机械制造技术已不能满足这些“微”机械和“微”系统的高精度制造和装配加工要求,因此有必要研究和应用微纳米制造技术和方法。微纳米制造技术是制造微传感器,微致动器,微结构和功能微纳米系统的基本手段和重要基础。